发明公开
- 专利标题: 高压和模拟双极器件
- 专利标题(英): High-voltage and analog bipolar devices
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申请号: CN201711011586.1申请日: 2017-10-26
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公开(公告)号: CN108574008A公开(公告)日: 2018-09-25
- 发明人: J·辛格 , 朱宝富
- 申请人: 格芯公司
- 申请人地址: 开曼群岛大开曼岛
- 专利权人: 格芯公司
- 当前专利权人: 格芯美国公司
- 当前专利权人地址: 开曼群岛大开曼岛
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 李峥; 于静
- 优先权: 15/454511 2017.03.09 US
- 主分类号: H01L29/735
- IPC分类号: H01L29/735 ; H01L29/06 ; H01L21/331
摘要:
本发明涉及高压和模拟双极器件。本公开涉及半导体结构,更具体地,涉及高压、模拟双极器件以及制造方法。该结构包括:形成在衬底中的基极区;形成在衬底中并且包括深n阱区和n阱区的集电极区;以及形成在衬底中并且包括深n阱区和n阱区的发射极区。
公开/授权文献
- CN108574008B 高压和模拟双极器件 公开/授权日:2021-08-03
IPC分类: