发明公开
- 专利标题: 2-肼基苯并噻唑衍生物的制造方法
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申请号: CN201780007804.6申请日: 2017-03-16
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公开(公告)号: CN108495847A公开(公告)日: 2018-09-04
- 发明人: 堀口雅弘 , 间宫纯一
- 申请人: DIC株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: DIC株式会社
- 当前专利权人: DIC株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 钟晶; 金鲜英
- 优先权: 2016-068237 2016.03.30 JP
- 国际申请: PCT/JP2017/010629 2017.03.16
- 国际公布: WO2017/169839 JA 2017.10.05
- 进入国家日期: 2018-07-23
- 主分类号: C07D277/82
- IPC分类号: C07D277/82 ; C09K19/38 ; G02B5/30 ; G02F1/13363
摘要:
本发明提供2-肼基苯并噻唑衍生物的新制造方法。另外,本发明提供使用通过该制造方法得到的2-肼基苯并噻唑衍生物来制造化合物的方法、含有该化合物的组合物。另外,提供在膜状聚合物的制造中有用的、含有通过该制造方法得到的化合物的聚合性组合物。本申请发明提供通式(I-C)所表示的化合物的制造方法、从通过该制造方法制造的化合物衍生的化合物、含有该化合物的组合物,所述通式(I-C)所表示的化合物的制造方法包括在选自由金属酰胺、金属氢化物、金属醇盐和有机碱金属组成的组中的至少一种化合物的存在下,使通式(I-B)所表示的化合物与通式(I-A)所表示的化合物反应的工序。
公开/授权文献
- CN108495847B 2-肼基苯并噻唑衍生物的制造方法 公开/授权日:2022-07-01