Invention Grant
- Patent Title: 一种基于二硫化钼与光敏剂近红外光响应纳米抗菌涂层的制备方法
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Application No.: CN201810178541.1Application Date: 2018-03-05
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Publication No.: CN108392675BPublication Date: 2020-08-11
- Inventor: 吴水林 , 冯梓洲 , 刘想梅 , 李朝阳 , 朱胜利 , 崔振铎 , 杨贤金
- Applicant: 湖北大学
- Applicant Address: 湖北省武汉市武昌区友谊大道368号
- Assignee: 湖北大学
- Current Assignee: 湖北大学
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市武昌区友谊大道368号
- Agency: 武汉河山金堂专利事务所
- Agent 胡清堂
- Main IPC: A61L27/34
- IPC: A61L27/34 ; A61L27/54 ; A61L27/30 ; A61L27/28 ; A61L27/06 ; C23C18/12

Abstract:
本发明是公开了一种基于二硫化钼与光敏剂近红外光响应纳米抗菌涂层的制备方法,具体包括钛片的打磨去污,运用水热法制备具有近红外光热抗菌性的二硫化钼纳米涂层;通过滴加光敏剂IR780,使IR780的光敏性与二硫化钼光热性产生协同抗菌效果;利用多巴胺在钛表面通过自聚合成膜包裹光敏剂IR780并接枝多肽RGDC得涂层具有较好的生物相容性和成骨性,所述方法制备过程简单,成本低,制备出的涂层能极大地提高植入体在体内的抗菌性能,在短时近红外光照的情况下即可减少二次感染的损害,修复机体,减少为抗菌而反复使用抗生素带来的危害,而多肽RGDC的使用使植入体的生物相容性更好,减少感染的发生。
Public/Granted literature
- CN108392675A 一种基于二硫化钼与光敏剂近红外光响应纳米抗菌涂层的制备方法 Public/Granted day:2018-08-14
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