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发明公开
CN108373728A 一种增塑改性的光敏树脂漆配方及其制造方法 无效 - 撤回

  • 专利标题： 一种增塑改性的光敏树脂漆配方及其制造方法
  • 专利标题（英）： Formula and preparation method of plasticized and modified photosensitive resin paint
  • 申请号： CN201610916917.5
    申请日： 2016-10-21
  • 公开(公告)号： CN108373728A
    公开(公告)日： 2018-08-07
  • 发明人: 闫斐斐
  • 申请人： 闫斐斐
  • 申请人地址： 山东省青岛市即墨市段泊岚镇府前街38号
  • 专利权人： 闫斐斐
  • 当前专利权人： 闫斐斐
  • 当前专利权人地址： 山东省青岛市即墨市段泊岚镇府前街38号
  • 主分类号： C09D135/00
  • IPC分类号： C09D135/00 ;  C09D167/06 ;  C09D7/65 ;  C09D7/63 ;  C09D7/61 ;  C09D7/20
一种增塑改性的光敏树脂漆配方及其制造方法
摘要：
本发明的技术方案是，一种解决光敏树脂漆塑性不好的配方及其制造方法，包括：失水苹果酸树脂、丙二醇、聚乙二醇（600）、超细微二氧化硅、聚酰胺蜡（正丁醇、石油脑混合物）、滑石粉1250目、邻苯型不饱和聚酯树脂、聚乙烯醇缩丁醛、苯乙烯、光敏树脂引发剂（D1173）、过氧化甲基乙基甲酮和邻苯二甲酸二甲酯混合物。
摘要（英）：

According to a technical scheme, a formula solving a problem that the plasticity of photosensitive resin paint is not good and a preparation method of paint are provided. The formula includes maleic resin, propylene glycol, polyethylene glycol (600), ultrafine silica, polyamide wax (a mixture of n-butyl alcohol and naphtha), talc powder having a size of 1250 meshes, o-benzene type unsaturated polyester resin, polyvinyl butyral, styrene, a photosensitive resin initiator (D1173), and a mixture of methyl ethyl ketone peroxide and dimethyl phthalate.

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