发明授权
- 专利标题: 薄膜晶体管
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申请号: CN201710051903.6申请日: 2017-01-20
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公开(公告)号: CN108336142B公开(公告)日: 2020-09-25
- 发明人: 赵宇丹 , 肖小阳 , 王营城 , 金元浩 , 张天夫 , 李群庆
- 申请人: 清华大学 , 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
- 申请人地址: 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室
- 专利权人: 清华大学,鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
- 当前专利权人: 清华大学,鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室
- 主分类号: H01L29/786
- IPC分类号: H01L29/786 ; H01L29/872 ; H01L29/06
摘要:
薄膜晶体管。一种肖特基二极管,其包括:一绝缘基底及至少一肖特基二极管单元,所述至少一肖特基二极管单元设置在绝缘基底的表面;所述肖特基二极管单元包括一第一电极,一半导体结构及一第二电极;所述第一电极设置在绝缘基底的表面,所述半导体结构包括一第一端及与第一端相对的第二端,所述半导体结构的第一端铺设在第一电极上使第一电极位于半导体结构的第一端和绝缘基底之间,第二端设置在绝缘基底的表面,所述第二电极设置在半导体结构的第二端并使半导体结构的第二端位于第二电极和绝缘基底之间,所述半导体结构为一纳米级半导体结构。
公开/授权文献
- CN108336142A 薄膜晶体管 公开/授权日:2018-07-27
IPC分类: