发明授权
- 专利标题: 一种短波红外焦平面自适应非均匀校正算法
-
申请号: CN201711497486.4申请日: 2017-12-31
-
公开(公告)号: CN108225571B公开(公告)日: 2020-01-10
- 发明人: 周津同
- 申请人: 北京华科德科技有限公司
- 申请人地址: 北京市昌平区科技园区超前路35号北京化工大学科技园综合楼301-304室
- 专利权人: 北京华科德科技有限公司
- 当前专利权人: 北京华科德科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市昌平区科技园区超前路35号北京化工大学科技园综合楼301-304室
- 主分类号: G01J5/00
- IPC分类号: G01J5/00
摘要:
本发明公开了一种短波红外焦平面自适应非均匀校正算法,所述短波红外焦平面自适应非均匀校正算法通过对焦平面工作模型的改进和优化,采用多参数特性曲线模型计算出焦平面在各种状态的非均匀性,在焦平面工作时实时校正补偿。
公开/授权文献
- CN108225571A 一种短波红外焦平面自适应非均匀校正算法 公开/授权日:2018-06-29