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发明公开
CN108026635A 用于在材料沉积工艺中承载基板的载体和用于承载基板的方法 无效 - 撤回

  • 专利标题： 用于在材料沉积工艺中承载基板的载体和用于承载基板的方法
  • 专利标题（英）： CARRIER FOR CARRYING A SUBSTRATE IN A MATERIAL DEPOSITION PROCESS AND METHOD FOR CARRYING A SUBSTRATE
  • 申请号： CN201580083352.0
    申请日： 2015-09-24
  • 公开(公告)号： CN108026635A
    公开(公告)日： 2018-05-11
  • 发明人: 莱内尔·欣特舒斯特
  • 申请人： 应用材料公司
  • 申请人地址： 美国加利福尼亚州
  • 专利权人： 应用材料公司
  • 当前专利权人： 应用材料公司
  • 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
  • 代理机构： 北京律诚同业知识产权代理有限公司
  • 代理商 徐金国; 赵静
  • 国际申请： PCT/EP2015/072015 2015.09.24
  • 国际公布： WO2017/050379 EN 2017.03.30
  • 进入国家日期： 2018-03-23
  • 主分类号： C23C14/50
  • IPC分类号： C23C14/50 ;  C23C16/458 ;  H01L21/687
用于在材料沉积工艺中承载基板的载体和用于承载基板的方法
摘要：
描述了用于要在真空处理设施中处理的一个或多个基板的载体(100；320)。所述载体包括：基板支撑部分(110)，用于支撑一个或多个待处理基板，基板支撑部分(110)包括至少一个拐角(111)；和框架(120)，基本上围绕基板支撑部分(110)提供并且包括外缘(121；122；123；124)。框架(120)包括狭缝(130；330)，所述狭缝从基板支撑部分(110)的至少一个拐角(111)延伸到框架(120)的外缘(121；122；123；124)。狭缝(130；330)相对于框架的外缘(121；122；123；124)而倾斜。另外，描述了用于在真空沉积工艺中承载基板的方法。
摘要（英）：

A carrier (100; 320) for one or more substrates to be processed in a vacuum processing installation is described. The carrier includes a substrate supporting portion (110) for supporting one or more substrates to be processed, the substrate supporting portion (110) includes at least one comer (111); and a frame (120) provided substantially around the substrate supporting portion (110) and comprising an outer edge (121; 122; 123; 124). The frame (120) includes a slit (130; 330) extending from the at least one corner (111) of the substrate supporting portion (110) to the outer edge (121; 122; 123; 124) of the frame (120). The slit (130; 330) is inclined with respect to the outer edge (121; 122; 123; 124) of the frame. Further, a method for carrying a substrate in a vacuum deposition processis described.

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