Invention Publication
- Patent Title: 封装半导体器件的衬底互连结构
- Patent Title (English): Substrate interconnection structure for packaging semiconductor device
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Application No.: CN201610919948.6Application Date: 2016-10-21
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Publication No.: CN107978576APublication Date: 2018-05-01
- Inventor: 饶开运 , 冯志成 , 贺碧华 , N·K·O·卡兰达 , 陈兰珠 , 臧园
- Applicant: 恩智浦美国有限公司
- Applicant Address: 美国得克萨斯
- Assignee: 恩智浦美国有限公司
- Current Assignee: 恩智浦美国有限公司
- Current Assignee Address: 美国得克萨斯
- Agency: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- Agent 申发振
- Main IPC: H01L23/488
- IPC: H01L23/488 ; H01L23/49 ; H01L23/538

Abstract:
用于半导体器件的“通用”衬底,由非导电衬底材料形成。在衬底材料中形成均匀的导电柱阵列。柱从衬底的上表面延伸到衬底的下表面。管芯安装盘可以形成在衬底材料的上表面上。在管芯安装盘下面的柱通过导线连接到管芯安装盘的周边之外的柱。电源和接地环可以通过连接包围管芯安装盘的柱形成。
Public/Granted literature
- CN107978576B 封装半导体器件的衬底互连结构 Public/Granted day:2023-07-28
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IPC分类: