发明授权
- 专利标题: 干涉仪及其成像方法
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申请号: CN201710804405.4申请日: 2017-09-08
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公开(公告)号: CN107894204B公开(公告)日: 2020-02-21
- 发明人: 张庭玮 , 李源钦 , 张启伸 , 江鸿志 , 陈顺成
- 申请人: 财团法人工业技术研究院
- 申请人地址: 中国台湾新竹县
- 专利权人: 财团法人工业技术研究院
- 当前专利权人: 财团法人工业技术研究院
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹县
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 徐协成
- 优先权: 106127569 2017.08.15 TW
- 主分类号: G01B7/26
- IPC分类号: G01B7/26 ; G01B9/02
摘要:
干涉仪及其成像方法,适于检测一待测样品。该干涉仪包括:一光源,提供一光束;一分光元件,接收光源所发出的光束,并将光束分成一第一入射光及一第二入射光,其中第一入射光入射至待测样品并反射成一第一反射光;一反射元件,接收第二入射光并反射成一第二反射光;一光检测元件,接收第一反射光与第二反射光,以产生一干涉信号;一信号处理模块,耦接至光检测元件,信号处理模块接收干涉信号并对干涉信号进行空间微分处理,以得到待测样品的一解调图像。
公开/授权文献
- CN107894204A 干涉仪及其成像方法 公开/授权日:2018-04-10