- 专利标题: 一种适合深空微区分析的自适应激光光谱及成像方法
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申请号: CN201710950101.9申请日: 2017-10-13
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公开(公告)号: CN107884339B公开(公告)日: 2020-01-10
- 发明人: 万雄 , 王泓鹏 , 袁汝俊 , 张铭 , 何强
- 申请人: 中国科学院上海技术物理研究所
- 申请人地址: 上海市虹口区玉田路500号
- 专利权人: 中国科学院上海技术物理研究所
- 当前专利权人: 中国科学院上海技术物理研究所
- 当前专利权人地址: 上海市虹口区玉田路500号
- 代理机构: 上海沪慧律师事务所
- 代理商 李秀兰
- 主分类号: G01N21/01
- IPC分类号: G01N21/01 ; G01N21/27 ; G01N21/64 ; G01N21/65 ; G01N21/73
摘要:
本发明公开了一种适合深空微区分析的自适应激光光谱及成像方法,该方法是在一种自适应激光光谱及成像探测系统上实现的,该方法包括预期焦斑自适应聚焦标定、探测对象单点紧聚焦、拉曼荧光及成像信息获取、拉曼荧光成像扫描微区分析、LIBS扫描微区分析及信息融合等五个步骤。本发明的有益效果是,提供了一种自适应激光光谱及成像探测方法,可在微区分析时自适应地调整聚焦光斑的直径;将电子目镜的区域平均灰度作为扫描成像点强度,同时满足自聚焦和宽谱扫描成像的要求;可同时实现三维空间LIBS元素分析、主动激光拉曼分子分析、高光谱荧光、可见宽谱扫描成像,提供多种信息以进行微区精细探测。
公开/授权文献
- CN107884339A 一种适合深空微区分析的自适应激光光谱及成像方法 公开/授权日:2018-04-06