Invention Grant
- Patent Title: 蒸镀装置与蒸镀方法
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Application No.: CN201711038771.XApplication Date: 2017-10-30
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Publication No.: CN107779822BPublication Date: 2019-12-03
- Inventor: 刘扬
- Applicant: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
- Applicant Address: 广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
- Assignee: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
- Current Assignee: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
- Current Assignee Address: 广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
- Agency: 深圳市德力知识产权代理事务所
- Agent 林才桂; 闻盼盼
- Main IPC: C23C14/24
- IPC: C23C14/24 ; C23C14/54
Abstract:
本发明提供一种蒸镀装置与蒸镀方法。本发明的蒸镀装置在蒸镀源与晶振片之间设置晶振片遮挡板,晶振片遮挡板能够在遮挡晶振片与不遮挡晶振片这两种位置之间切换;晶振片遮挡板处于遮挡晶振片的位置时,蒸镀材料沉积到晶振片遮挡板上,从而避免蒸镀材料沉积到晶振片上;晶振片遮挡板处于不遮挡晶振片的位置时,蒸镀材料可以沉积到晶振片上;本发明的蒸镀装置应用于蒸镀制程时,在蒸镀的初始阶段即待蒸镀材料的表面杂质的蒸发阶段,晶振片遮挡板处于遮挡晶振片的位置,防止杂质沉积到晶振片表面;在待蒸镀材料的表面杂质蒸发完毕后,晶振片遮挡板处于不遮挡晶振片的位置,蒸镀材料沉积到晶振片表面,镀率监控装置获得平稳的蒸镀速率。
Public/Granted literature
- CN107779822A 蒸镀装置与蒸镀方法 Public/Granted day:2018-03-09
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IPC分类: