发明公开
- 专利标题: 防毒面具密合框的反抛物线形反折边结构
- 专利标题(英): Inverse-parabola-shaped retroflexed hem structure of sealing frame of gas mask
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申请号: CN201711084090.7申请日: 2017-11-07
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公开(公告)号: CN107754111A公开(公告)日: 2018-03-06
- 发明人: 齐嘉豪 , 丁松涛 , 王钢 , 王胜 , 戎德功 , 王立莹 , 王京 , 潘高阳 , 石康 , 孟凡海 , 成立梅 , 唐鹤 , 董超 , 张建斌 , 邢浩洋
- 申请人: 山西新华化工有限责任公司
- 申请人地址: 山西省太原市新兰路33号
- 专利权人: 山西新华化工有限责任公司
- 当前专利权人: 山西新华防化装备研究院有限公司,中国人民解放军军事科学院防化研究院
- 当前专利权人地址: 030008 山西省太原市尖草坪区新兰路71号
- 代理机构: 太原科卫专利事务所
- 代理商 朱源; 武建云
- 主分类号: A62B18/08
- IPC分类号: A62B18/08
摘要:
本发明公开了一种防毒面具密合框的反抛物线形反折边结构,密合框反折边由左右对称的额头部位(1)、太阳穴部位(2)、脸颊部位(3)及下颚部位(4)构成;额头部位为内凹反抛物线形,其截面形状表示为y=0.05x2-3.3x+45;太阳穴部位为内凹反抛物线形,其截面形状表示为y=0.014x2-2x+39;脸颊部位为内凹反抛物线形,其截面形状表示为y=0.015x2-2x+35;下颚部位包括下颚侧部和下巴部;下颚侧部为直线形,其截面形状表示为y=0.16x+0.1,下巴部为内凹反抛物线形,其截面形状表示为y=0.024e0.13x。该反折边结构内凹面直接与人脸贴合,通过设计该种反折边结构,提高佩戴人员的生理舒适性。
公开/授权文献
- CN107754111B 防毒面具密合框的反抛物线形反折边结构 公开/授权日:2020-12-18
IPC分类: