发明授权
- 专利标题: 化学机械抛光垫复合抛光层配制品
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申请号: CN201610461665.1申请日: 2016-06-23
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公开(公告)号: CN107627202B公开(公告)日: 2019-07-05
- 发明人: B·钱 , J·考兹休克 , T·布鲁加罗拉斯布鲁福 , D·卢戈 , G·C·雅各布 , J·B·米勒 , T·Q·陈 , M·R·斯塔克 , J·J·亨德伦
- 申请人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限责任公司
- 申请人地址: 美国特拉华州;
- 专利权人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司,陶氏环球技术有限责任公司
- 当前专利权人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司,陶氏环球技术有限责任公司
- 当前专利权人地址: 美国特拉华州;
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 陈哲锋; 胡嘉倩
- 优先权: 14/751385 20150626 US
- 主分类号: B24B37/24
- IPC分类号: B24B37/24 ; B24B37/26 ; B24B37/04 ; B24B37/22
摘要:
提供一种化学机械抛光垫,其含有:具有抛光表面的抛光层;其中所述抛光层包含第一连续非短效聚合物相和第二非短效聚合物相;其中所述第一连续非短效聚合物相具有多个周期性凹座;其中所述多个周期性凹座由所述第二非短效聚合物相所占据;其中所述第一连续非短效聚合物相的开孔孔隙率≤6体积%;其中所述第二非短效聚合物相的开孔孔隙率≥10体积%;以及其中所述抛光表面适于抛光衬底。
公开/授权文献
- CN107627202A 化学机械抛光垫复合抛光层配制品 公开/授权日:2018-01-26