发明公开

溅射系统
摘要:
本发明公开了一种溅射系统,包括:溅射腔室;设置于所述溅射腔室内的靶材固定件,所述靶材固定件具有用于将溅射用的气体导入所述溅射腔室内的靶材侧进气孔,所述靶材固定件用于固定靶材;气体供给装置,所述气体供给装置与所述靶材侧进气孔相连通,所述气体供给装置用于供给溅射用的气体。本发明的溅射系统,与现有技术相比,解决了现有的溅射系统因靶材周围的溅射用的气体补充的较慢导致的溅射的膜的均匀性不良的技术问题。
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