• 专利标题: 实现工件氮化均温的离子渗氮装置
  • 申请号: CN201710339734.6
    申请日: 2017-05-15
  • 公开(公告)号: CN107177816B
    公开(公告)日: 2019-06-28
  • 发明人: 王剑黄帅周榆力
  • 申请人: 西华大学
  • 申请人地址: 四川省成都市金牛区金周路999号西华大学
  • 专利权人: 西华大学
  • 当前专利权人: 西华大学
  • 当前专利权人地址: 四川省成都市金牛区金周路999号西华大学
  • 主分类号: C23C8/36
  • IPC分类号: C23C8/36
实现工件氮化均温的离子渗氮装置
摘要:
本发明涉及离子渗氮装置,尤其涉及一种实现工件氮化均温的离子渗氮装置,其包括炉体、炉底盘、多功能活性屏、上传动系统、下传动系统、进气系统、抽气系统,其特征在于,炉体为圆筒形,炉底盘为圆盘形,炉体放置于炉底盘正上方形成炉腔;多功能活性屏垂直悬挂于炉腔内,上传动系统固定于炉体顶部,上传动系统驱动多功能活性屏顺时针转动;下传动系统固定于炉底盘,下传动系统带动工件逆时针转动;进气系统由上传动系统的进气部分和多功能活性屏的进气部分组成;抽气系统由主抽气管和分抽气管组成。本发明设计的离子渗氮装置有效提升进气与抽气的均匀性、提高气体的分解率、稳定阴阳极之间的距离,从而实现工件氮化温度的均一性,保证渗氮层厚度及性能的一致性。本发明涉及的装置也适合材料表面的物理气相沉积及化学气相沉积。
公开/授权文献
0/0