空穴型半导体电控量子点器件,其制备及使用方法
摘要:
本发明公开了空穴型半导体电控量子点器件、其制备和使用方法。其包含非掺杂GaAs衬底(101)、非掺杂AlGaAs层(102)和表面非掺杂GaAs盖帽层(103);欧姆接触源极(201)和漏极(204),依次穿过表面非掺杂GaAs盖帽层(103)和非掺杂AlGaAs层(102),进入非掺杂GaAs衬底(101)至少5nm;至少两个量子点小电极(402),位于欧姆接触源极(201)和漏极(204)之间,处于表面非掺杂GaAs盖帽层上(103);绝缘层(500),覆盖表面非掺杂GaAs盖帽层(103)、量子点小电极(402)、以及欧姆接触源极(201)和漏极(204)的至少一部分;和栅极纳米条带(602),设置在绝缘层(500)上,并且水平投影与欧姆接触源极(201)、漏极(204)以及量子点小电极(402)均有交叠。还公开了一种量子点装置。
0/0