- 专利标题: 温敏响应高分子阵列的制备方法及其在样品预处理中的应用
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申请号: CN201710512030.4申请日: 2017-06-28
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公开(公告)号: CN107153092B公开(公告)日: 2019-07-23
- 发明人: 刘颖 , 鞠熀先 , 孟潇 , 成全
- 申请人: 南京大学
- 申请人地址: 江苏省南京市栖霞区仙林大道163号
- 专利权人: 南京大学
- 当前专利权人: 南京大学
- 当前专利权人地址: 江苏省南京市栖霞区仙林大道163号
- 代理机构: 南京知识律师事务所
- 代理商 施婷婷
- 主分类号: G01N27/62
- IPC分类号: G01N27/62 ; G01N1/28 ; C08F120/54
摘要:
本发明涉及温敏响应高分子阵列的制备方法及其在样品预处理中的应用,基于光影印技术和炔基与巯基的点击化学技术,在氧化铟锡玻片(ITO玻片)构建羟基亲水性微阵列,再在亲水微阵列内基于表面引发原子转移自由基聚合生成高分子聚(N‑异丙基丙烯酰胺)(PNIPAM)的可控亲水性阵列。当低于临界温度时高分子阵列其亲水性作用使得样品汇聚在玻片表面,高于临界温度时蛋白质/肽段通过疏水作用与疏水性的高分子阵列相吸附,而共存的盐和污染物则被冲走,从而实现样品靶上自除盐和高效富集的预处理,进而可对目标样品进行MALDI‑MS一步快速检测。本发明制备及操作简单、普适性高、分析时间短、成本低廉,具有一定的生物医学应用价值。
公开/授权文献
- CN107153092A 温敏响应高分子阵列的制备方法及其在样品预处理中的应用 公开/授权日:2017-09-12