发明授权
- 专利标题: 水处理装置
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申请号: CN201580070645.5申请日: 2015-12-24
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公开(公告)号: CN107108286B公开(公告)日: 2018-07-10
- 发明人: 大堂维大 , 西村政弥 , 斋藤智己 , 山口幸子
- 申请人: 大金工业株式会社
- 申请人地址: 日本大阪府
- 专利权人: 大金工业株式会社
- 当前专利权人: 大金工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本大阪府
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 马淑香
- 优先权: 2014-265971 2014.12.26 JP
- 国际申请: PCT/JP2015/006463 2015.12.24
- 国际公布: WO2016/103723 JA 2016.06.30
- 进入国家日期: 2017-06-23
- 主分类号: C02F1/48
- IPC分类号: C02F1/48
摘要:
水处理槽(10)在水中产生放电而生成杀菌因子。水处理槽(10)按照贮水槽(30)内的水位进行移动,从而在放电状态和排水状态之间相互切换。在放电状态下,水处理槽(10)与贮水槽(30)成为非连通状态,且一对电极(16、17)浸在水处理槽(10)内的水中而产生放电;在排水状态下,一对电极(16、17)离开水处理槽(10)内的水而停止放电,且水处理槽(10)内的水被排向贮水槽(30)。供水部(20)构成为:当水处理槽(10)处于排水状态时供水部(20)向水处理槽(10)供水,当水处理槽(10)处于放电状态时供水部(20)停止供水。
公开/授权文献
- CN107108286A 水处理装置 公开/授权日:2017-08-29