熔石英表面纳米级损伤前驱体的钝化工艺
摘要:
本发明公开了一种熔石英表面纳米级损伤前驱体的钝化工艺,包括以下步骤:(1)对均方根粗糙度Rq小于0.5nm的熔石英元件表面进行等离子体清洗处理,以去除熔石英元件表面的水解层,暴露出熔石英元件亚表面的纳米级损伤前驱体;(2)对经步骤(1)处理的熔石英元件表面进行等离子体钝化处理,使纳米级损伤前驱体钝化。该工艺具有流程简单,可操作性强、能够去除熔石英表面纳米级损伤前驱体,不会引起元件表面二次污染等优点,采用该工艺能够加工出高精度和高表面质量的光学元件,从而有效的提升熔石英元件的抗激光损伤能力。
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