发明授权
CN107057093B 一种紫外光照消除可降解高分子薄膜表面皱纹的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种紫外光照消除可降解高分子薄膜表面皱纹的方法
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申请号: CN201710111368.9申请日: 2017-02-24
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公开(公告)号: CN107057093B公开(公告)日: 2019-07-05
- 发明人: 鲁从华 , 汪娟娟
- 申请人: 天津大学
- 申请人地址: 天津市南开区卫津路92号
- 专利权人: 天津大学
- 当前专利权人: 天津大学
- 当前专利权人地址: 天津市南开区卫津路92号
- 代理机构: 天津市北洋有限责任专利代理事务所
- 代理商 李丽萍
- 主分类号: C08J3/24
- IPC分类号: C08J3/24 ; C08J5/18 ; C08J7/00 ; C08L83/04 ; C08L67/04 ; C08L33/08 ; C08L75/04
摘要:
本发明公开了一种紫外光照消除可降解高分子薄膜表面皱纹的方法,主要是针对以聚二甲基硅氧烷(PDMS)弹性体为基底,旋涂溶有一定质量分数可降解高分子的有机溶剂溶液构筑的软硬复合体系,并通过施加外界应力使其表面产生皱纹形貌;然后,利用高分子薄膜的光降解反应,引起膜/基复合系统中应力场的扰动和松弛,从而实现表面皱纹图案的消除。对已有的表面皱纹进行紫外光照,通过改变光照剂量等实验参数,控制光照剂量与界面残余应力的相对大小,可以调控复合体系表面皱纹的消除与否。本方法操作简便,洁净高效,在复合材料领域防止材料失效和提高材料使用寿命方面有着广泛的应用前景。
公开/授权文献
- CN107057093A 一种紫外光照消除可降解高分子薄膜表面皱纹的方法 公开/授权日:2017-08-18