发明授权
- 专利标题: 阵列基板、其制作方法及显示装置
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申请号: CN201710103356.1申请日: 2017-02-24
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公开(公告)号: CN106887438B公开(公告)日: 2020-04-17
- 发明人: 谢蒂旎 , 张晓晋 , 李伟
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 滕一斌
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L27/32 ; H01L51/52 ; H01L21/77
摘要:
本发明公开了一种阵列基板、其制作方法及显示装置,所述阵列基板包括衬底基板、依次位于所述衬底基板上的第一绝缘层和薄膜晶体管,所述第一绝缘层包括具有吸光作用的有色区域,所述有色区域在衬底基板上的正投影至少覆盖所述薄膜晶体管的有源层在衬底基板上的正投影区域。通过设置第一绝缘层的有色区域将外界光源中的短波段波长的光吸收掉,从而实现对有源层沟道的保护,保持器件性能稳定,延长使用寿命。
公开/授权文献
- CN106887438A 阵列基板、其制作方法及显示装置 公开/授权日:2017-06-23
IPC分类: