- 专利标题: 一种CM/EPDM共混胶单相刻蚀的方法及提高表征橡胶共混物微观结构时分辨率的方法
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申请号: CN201710043142.X申请日: 2017-01-19
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公开(公告)号: CN106750491B公开(公告)日: 2019-09-10
- 发明人: 夏茹 , 舒俊杰 , 林瑞健 , 陈鹏 , 杨斌 , 苏丽芬 , 钱家盛 , 苗继斌 , 曹明 , 郑争志
- 申请人: 安徽大学
- 申请人地址: 安徽省合肥市经开区九龙路111号
- 专利权人: 安徽大学
- 当前专利权人: 安徽大学
- 当前专利权人地址: 安徽省合肥市经开区九龙路111号
- 代理机构: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司
- 代理商 乔恒婷
- 主分类号: C08J9/26
- IPC分类号: C08J9/26 ; C08J3/24 ; C08L23/28
摘要:
本发明公开了一种CM/EPDM共混胶单相刻蚀的方法及提高表征橡胶共混物微观结构时分辨率的方法,通过硫化体系硫化CM/EPDM共混胶中的CM相,而保持EPDM相处于未硫化状态;随后利用刻蚀剂将CM/EPDM共混胶中的EPDM相从共混体系中刻蚀掉形成孔洞,留下未被刻蚀的CM相,再利用易挥发的溶剂将多余的刻蚀剂从共混胶中萃取出来,干燥后即可。通过对共混橡胶中的一相进行硫化形成网状结构使其在刻蚀过程中保持稳定结构而不被溶剂侵蚀,将未硫化相刻蚀,形成可观测的表面形貌。
公开/授权文献
- CN106750491A 一种CM/EPDM共混胶单相刻蚀的方法及提高表征橡胶共混物微观结构时分辨率的方法 公开/授权日:2017-05-31