- 专利标题: 一种两性离子修饰的四苯乙烯及其制备方法和应用
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申请号: CN201610955629.0申请日: 2016-10-27
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公开(公告)号: CN106518730B公开(公告)日: 2017-10-24
- 发明人: 李振 , 王灿 , 葛子义 , 刘志洋
- 申请人: 武汉大学
- 申请人地址: 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学
- 专利权人: 武汉大学
- 当前专利权人: 武汉大学
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学
- 代理机构: 武汉科皓知识产权代理事务所
- 代理商 马丽娜
- 主分类号: C07C303/32
- IPC分类号: C07C303/32 ; C07C309/14 ; C09K11/06 ; H01L51/42 ; H01L51/46
摘要:
本发明公开了一种两性离子修饰的四苯乙烯及其制备方法和应用,所述的两性离子修饰的四苯乙烯具有式(I)或式(II)所示的结构,是第一例具有聚集诱导发光性质的聚合物太阳能电池界面修饰材料,本发明利用具有聚集诱导发光性质的化合物四苯乙烯构筑阴极界面修饰材料,既可以引入π单元提高其导电性,又可以避免分子间π‑π堆积带来的不利影响,该材料在基于PTB7和PC71BM作为活性层、铝作为阴极的传统结构单层聚合物太阳能电池器件中表现出优秀的界面修饰效果,最高能量转换效率达到8.94%。
公开/授权文献
- CN106518730A 一种两性离子修饰的四苯乙烯及其制备方法和应用 公开/授权日:2017-03-22