发明授权
- 专利标题: 电镀装置
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申请号: CN201580033874.X申请日: 2015-06-18
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公开(公告)号: CN106460223B公开(公告)日: 2018-09-28
- 发明人: 中岛航 , 中山直树 , 秋野高史 , 山根茂树
- 申请人: 株式会社村田制作所
- 申请人地址: 日本京都府
- 专利权人: 株式会社村田制作所
- 当前专利权人: 株式会社村田制作所
- 当前专利权人地址: 日本京都府
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 李洋; 舒艳君
- 优先权: 2014-133394 2014.06.27 JP
- 国际申请: PCT/JP2015/067561 2015.06.18
- 国际公布: WO2015/198955 JA 2015.12.30
- 进入国家日期: 2016-12-22
- 主分类号: C25D17/06
- IPC分类号: C25D17/06
摘要:
本发明提供电镀装置,能够通过防止所谓的电流线的绕行的产生、避免不希望的电镀的生长而使安装于电镀用夹具的表背两面的2片晶片的电镀厚度均匀的电镀装置。本发明所涉及的电镀装置将作为电镀处理的对象的2片晶片(7)安装于电镀用夹具(10)的表背两面,具备与所安装的2片晶片(7)的电镀处理的对象面分别对置的阳极(20)。具备:引导部(31),沿着储存电镀液的电镀槽(30)的内壁设置,能够供电镀用夹具(10)插入;以及膨胀密封部件(32),设置于引导部(31),使膨胀密封部件(32)膨胀而按压于插入至电镀槽(30)的电镀用夹具(10),由此将2片晶片(7)分槽。
公开/授权文献
- CN106460223A 电镀装置 公开/授权日:2017-02-22