发明授权
- 专利标题: 等离子体处置系统
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申请号: CN201580012364.4申请日: 2015-03-27
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公开(公告)号: CN106170262B公开(公告)日: 2019-07-16
- 发明人: 石川学 , 木村修一 , 渡边宏一郎
- 申请人: 奥林巴斯株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 奥林巴斯株式会社
- 当前专利权人: 奥林巴斯株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 张会华
- 优先权: 2014-082288 2014.04.11 JP
- 国际申请: PCT/JP2015/059757 2015.03.27
- 国际公布: WO2015/156158 JA 2015.10.15
- 进入国家日期: 2016-09-06
- 主分类号: A61B18/12
- IPC分类号: A61B18/12
摘要:
在等离子体处置系统中,对导电性溶液的灌注层的温度进行探测的温度探测部固定于处置部且位于在第一电极部和第二电极部浸在了所述灌注层中的状态下浸在所述灌注层中的位置。在所述等离子体处置系统中,控制部基于所述温度探测部的探测结果来对由温度调整单元进行的温度的调整和所述导电性溶液的供给量及吸引量进行控制,从而调整所述灌注层中的所述导电性溶液的温度,使得成为所述灌注层的所述温度在目标的温度范围的状态。
公开/授权文献
- CN106170262A 等离子体处置系统 公开/授权日:2016-11-30