- 专利标题: 掩模以及利用其使有机发光显示设备的像素图案化的方法
- 专利标题(英): Masks, method to inspect and adjust mask position, and method to pattern pixels of organic light-emitting display device utilizing the masks
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申请号: CN201610219396.8申请日: 2016-04-11
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公开(公告)号: CN106169535A公开(公告)日: 2016-11-30
- 发明人: 李相信 , 河东振 , 姜敏求 , 权五燮 , 李尙玟
- 申请人: 三星显示有限公司
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 三星显示有限公司
- 当前专利权人: 三星显示有限公司
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
- 代理商 王达佐; 刘铮
- 优先权: 10-2015-0069351 2015.05.19 KR
- 主分类号: H01L51/00
- IPC分类号: H01L51/00 ; H01L51/56
摘要:
公开了一种用于有机发光显示设备的像素图案化和像素位置检查的方法和用于有机发光显示设备的像素图案化掩模,其中该方法包括:使用第一掩模,在衬底上形成与第一像素图案和用于检查第一像素位置的第一像素定位图案对应的第一颜色薄膜层;使第一掩模从与形成第一颜色薄膜层相关联的位置移动确定间距;使经移动的第一掩模相对于衬底对准;以及使用经移动的第一掩模,在衬底上形成与第一像素图案和用于检查第一像素的位置的第一像素定位图案对应的第二颜色薄膜层。
公开/授权文献
- CN106169535B 掩模以及利用其使有机发光显示设备的像素图案化的方法 公开/授权日:2020-10-20
IPC分类: