Invention Grant

半导体器件
Abstract:
本发明涉及半导体器件。在功率MOSFET等的超结结构中,主体单元部分的浓度相对较高,所以针对使用现有技术的外围端接结构或降低表面场结构的外围部分难以确保击穿电压等于或高于单元部分的击穿电压。具体而言,问题出现在于,在芯片的外围拐角部分中,由于电场集中导致击穿电压的变化对于超结结构中的电荷失衡变得敏感。在本发明中,在诸如在有源单元区域和芯片外围区域中的每个区域中具有超结结构的功率MOSFET之类的半导体功率器件中,与第一导电类型的漂移区域的表面的第二导电类型的主结耦合并具有比主结浓度更低浓度的、第二导电类型的表面降低表面场区域的外端位于主结的外端与芯片外围区域中的超结结构的外端之间的中间区域中。
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