Invention Grant
- Patent Title: 液体喷出头以及使用该液体喷出头的记录装置
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Application No.: CN201610526044.7Application Date: 2013-08-30
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Publication No.: CN106113940BPublication Date: 2018-05-22
- Inventor: 川村宽之 , 穗积大辅 , 池内涉 , 吉村健一
- Applicant: 京瓷株式会社
- Applicant Address: 日本京都府
- Assignee: 京瓷株式会社
- Current Assignee: 京瓷株式会社
- Current Assignee Address: 日本京都府
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 李国华
- Priority: 2012-190266 2012.08.30 JP
- Main IPC: B41J2/045
- IPC: B41J2/045 ; B41J2/055 ; B41J2/14

Abstract:
本发明提供一种液体喷出头以及使用该液体喷出头的记录装置,液体喷出方向与相对于喷出孔面正交的方向的偏差较小。本发明的液体喷出头(2)具备喷出孔(8)、喷出孔(8)开口的喷出孔面(4‑1)、加压室(10)、以及连结喷出孔(8)与加压室(10)的流路(13),流路(13)包括喷嘴部(13a)以及部分流路(13b),对于部分流路(13b),在设平均直径为W[μm],喷嘴部(13a)侧的面积重心为C1,自喷嘴部(13a)侧起2W[μm]的位置处的面积重心为C2,加压室(10)侧的面积重心为C3,连结C1与C3的直线与自喷嘴部(13a)侧起2W[μm]的位置处的与所述喷出孔面平行的平面的交点为Cm时,Cm与C1的平面方向的距离(Dm)大于0.1W[μm],并且C2与C1的平面方向的距离(D2)在0.1W[μm]以下。
Public/Granted literature
- CN106113940A 液体喷出头以及使用该液体喷出头的记录装置 Public/Granted day:2016-11-16
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