发明公开
- 专利标题: 多孔膜构图技术
- 专利标题(英): Porous membrane patterning technique
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申请号: CN201580010915.3申请日: 2015-02-20
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公开(公告)号: CN106029234A公开(公告)日: 2016-10-12
- 发明人: J.M.尼科尔斯 , M.J.米斯纳 , 周宏毅
- 申请人: 通用电气公司
- 申请人地址: 美国纽约州
- 专利权人: 通用电气公司
- 当前专利权人: 通用电气公司
- 当前专利权人地址: 美国纽约州
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 叶晓勇; 姜甜
- 优先权: 14/194340 2014.02.28 US
- 国际申请: PCT/EP2015/053616 2015.02.20
- 国际公布: WO2015/128256 EN 2015.09.03
- 进入国家日期: 2016-08-26
- 主分类号: B01L3/00
- IPC分类号: B01L3/00 ; B41F33/00 ; B41J3/407 ; B41J29/393
摘要:
本发明提供多孔膜构图技术。在一个实施例中,可以经由印刷而利用溶剂来将多孔膜构图于多孔膜上,使得多孔膜在涂敷溶剂处塌陷。在另一实施例中,将包括至少多孔膜的成分的溶液铸造至铸造板或漏板的空隙中,将铸造板移除,并且,使得剩余的成分完成相转化过程而形成多孔膜区域,由此,可以形成所构图的多孔膜。
公开/授权文献
- CN106029234B 多孔膜构图技术 公开/授权日:2022-06-28
IPC分类: