发明公开

透明导电性膜
摘要:
本发明提供低折射率层的耐蚀刻性优异、可稳定地将透明导电层的图案形状不可见化、并且与透明导电层等之间的粘附性优异的透明导电层形成用层合体和使用该层合体的透明导电性膜。所述透明导电层形成用层合体等在基材膜的至少一侧的表面具有光学调整层,其中,光学调整层是从基材膜侧将折射率为1.6以上的值的高折射率层和折射率为1.45以下的值的低折射率层依次进行层合而成的,而且,低折射率层含有二氧化硅微粒,并且将低折射率层的露出面侧的不存在二氧化硅微粒的空隙的比例设为15%以上的值。
公开/授权文献
0/0