- 专利标题: 一种抗变形的像素结构及包括其的下基板和电润湿显示器
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申请号: CN201610329981.3申请日: 2016-05-17
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公开(公告)号: CN105842842B公开(公告)日: 2018-09-25
- 发明人: 周蕤 , 唐彪 , 吴昊 , 郭媛媛 , 罗伯特·安德鲁·海耶斯 , 周国富
- 申请人: 华南师范大学 , 深圳市国华光电科技有限公司 , 深圳市国华光电研究院
- 申请人地址: 广东省广州市大学城华南师范大学理五栋彩色动态电子纸显示技术研究所
- 专利权人: 华南师范大学,深圳市国华光电科技有限公司,深圳市国华光电研究院
- 当前专利权人: 深圳市国华光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 518000 广东省深圳市龙华区观澜街道新澜社区观光路1301号银星科技大厦B715
- 代理机构: 广州嘉权专利商标事务所有限公司
- 代理商 唐致明
- 主分类号: G02B26/00
- IPC分类号: G02B26/00
摘要:
本发明公开了一种抗变形的像素结构及包括其的下基板和电润湿显示器,在显示区域内,像素结构围成多个像素格,像素格呈阵列排布,在显示区域的外沿区域内,像素结构设有至少两列围绕显示区域间断设置的抗变形槽,抗变形槽为长条形槽,各列抗变形槽错位设置;在回炉热处理工艺后,在显示区域的外沿区域,像素结构材料会向外侧收缩,在此收缩作用下,抗变形槽被拉伸变形,由于每列抗变形槽错位设置,在变形中吸收了显示区域的外沿区域产生的拉应力,大大减小了传递到形成像素格的像素墙的拉应力,可显著减小电润湿显示器在回炉热处理工艺后像素格的变形,提高后续油墨填充工艺的均匀性,防止憎水性绝缘层在显示区域的外沿区域受拉应力而破损。
公开/授权文献
- CN105842842A 一种抗变形的像素结构及包括其的下基板和电润湿显示器 公开/授权日:2016-08-10