- 专利标题: 一种像素单元及其制备方法、阵列基板和显示装置
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申请号: CN201610364630.6申请日: 2016-05-27
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公开(公告)号: CN105810719B公开(公告)日: 2019-08-06
- 发明人: 董向丹 , 李坤 , 代磊
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 周晨
- 主分类号: H01L27/32
- IPC分类号: H01L27/32 ; H01L27/12 ; G09F9/33
摘要:
本发明提供了一种像素单元,所述像素单元包括:像素限定层、像素电极、发光层和公共电极,像素电极包括底面和侧面,侧面沿第二过孔的侧壁延伸至第二过孔侧壁的顶部,发光层形成于像素电极上,并将像素限定层覆盖,公共电极形成于发光层上,并将发光层覆盖并沿像素限定层顶面延伸。本发明的像素单元使得发光层向周围散射的光大为减少,像素单元之间的混色现象大为改善,有效地解决了光散射带来的混色问题,增大了像素单元的发光面积,提升了整体亮度,减少了掩膜成本并使整个工艺的成本大幅降低,提高了产能,提升了发光效果。
公开/授权文献
- CN105810719A 一种像素单元及其制备方法、阵列基板和显示装置 公开/授权日:2016-07-27
IPC分类: