发明公开
CN105797656A 机械地流体化的硅沉积系统和方法
无效 - 撤回
- 专利标题: 机械地流体化的硅沉积系统和方法
- 专利标题(英): Mechanically fluidized silicon deposition systems and methods
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申请号: CN201610149976.4申请日: 2013-05-09
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公开(公告)号: CN105797656A公开(公告)日: 2016-07-27
- 发明人: 马克·W·达瑟尔 , 大卫·A·布雷斯勒
- 申请人: 罗克斯达技术有限责任公司
- 申请人地址: 美国华盛顿
- 专利权人: 罗克斯达技术有限责任公司
- 当前专利权人: 罗克斯达技术有限责任公司
- 当前专利权人地址: 美国华盛顿
- 代理机构: 北京鸿德海业知识产权代理事务所
- 代理商 袁媛
- 优先权: 13/481,548 2012.05.25 US
- 分案原申请号: 2013800364961 2013.05.09
- 主分类号: B01J8/40
- IPC分类号: B01J8/40 ; B01J8/30 ; C01B33/029 ; C23C16/442 ; C23C16/24
摘要:
机械地流体化的系统和工艺允许高效、成本有效的硅生产。可以向受热盘或者锅提供粒子,该受热盘或者锅被振荡或者振动以提供反应表面。粒子在盘或者锅中向下迁移,并且在反应物产品达到希望的状态时,反应物产品在盘或者锅中向上迁移。可以回收废气。