- 专利标题: 一种原子层沉积修饰的限域催化剂的制备方法及其应用
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申请号: CN201610128733.2申请日: 2016-03-07
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公开(公告)号: CN105771972B公开(公告)日: 2018-07-20
- 发明人: 覃勇 , 王眉花 , 高哲 , 杨慧敏 , 张斌
- 申请人: 中国科学院山西煤炭化学研究所
- 申请人地址: 山西省太原市迎泽区桃园南路27号
- 专利权人: 中国科学院山西煤炭化学研究所
- 当前专利权人: 中国科学院山西煤炭化学研究所
- 当前专利权人地址: 山西省太原市迎泽区桃园南路27号
- 代理机构: 太原市科瑞达专利代理有限公司
- 代理商 刘宝贤
- 主分类号: B01J23/42
- IPC分类号: B01J23/42 ; C07C215/76 ; C07C213/02
摘要:
一种原子层沉积修饰的限域催化剂的制备方法和应用是利用原子层沉积技术,在碳纳米纤维模板上先后沉积超薄的氧化物层,Pt纳米粒子和厚的氧化物层,然后在空气中煅烧除去碳纳米纤维模板,得到氧化物超薄修饰的限域在氧化物纳米管内的Pt基催化剂。本发明制备的催化剂,极大地改善了传统催化剂金属‑氧化物界面位点有限的缺陷,与没有超薄修饰的限域Pt催化剂和未限域的Pt催化剂相比,超薄修饰的限域Pt催化剂对四硝基苯酚的还原加氢活性最好,可以被推广到其他多相催化剂的制备。
公开/授权文献
- CN105771972A 一种原子层沉积修饰的限域催化剂的制备方法及其应用 公开/授权日:2016-07-20