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发明公开
CN105579228A 阻挡膜及制备该阻挡膜的方法 有权

  • 专利标题： 阻挡膜及制备该阻挡膜的方法
  • 专利标题（英）： Barrier film and method for producing same
  • 申请号： CN201580001838.5
    申请日： 2015-01-19
  • 公开(公告)号： CN105579228A
    公开(公告)日： 2016-05-11
  • 发明人: 黄樯渊 , 金东烈
  • 申请人： LG化学株式会社
  • 申请人地址： 韩国首尔
  • 专利权人： LG化学株式会社
  • 当前专利权人： LG化学株式会社
  • 当前专利权人地址： 韩国首尔
  • 代理机构： 北京金信知识产权代理有限公司
  • 代理商 朱梅; 李海明
  • 优先权： 10-2014-0006133 2014.01.17 KR; 10-2014-0114251 2014.08.29 KR
  • 国际申请： PCT/KR2015/000529 2015.01.19
  • 国际公布： WO2015/108384 KO 2015.07.23
  • 进入国家日期： 2016-03-10
  • 主分类号： B32B9/00
  • IPC分类号： B32B9/00 ;  B32B7/02
阻挡膜及制备该阻挡膜的方法
摘要：
本申请涉及一种阻挡膜和制备该阻挡膜的方法，提供了一种用于有机或无机光致发光体、显示设备和太阳能发电元件等的阻挡膜，以有效阻挡化学物质，如湿气和氧，因而保护了内部的电子元件，并保持了优异的光学特性。
摘要（英）：

The present application relates to a barrier film and a method for producing same, and provides a barrier film utilized in organic or inorganic light-emitting bodies, display apparatuses, solar power generation elements and the like to effectively block chemical substances such as moisture and oxygen, thereby protecting the electronic elements in the interior as well as maintaining a superb optical characteristic.

公开/授权文献
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