Invention Grant
- Patent Title: 清洁装置
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Application No.: CN201510908116.XApplication Date: 2015-12-09
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Publication No.: CN105414069BPublication Date: 2017-07-07
- Inventor: 吴伟功 , 程仁杰 , 刘炳
- Applicant: 北京天诚同创电气有限公司
- Applicant Address: 北京市大兴区亦庄经济技术开发区博兴一路8号
- Assignee: 北京天诚同创电气有限公司
- Current Assignee: 北京天诚同创电气有限公司
- Current Assignee Address: 北京市大兴区亦庄经济技术开发区博兴一路8号
- Agency: 北京金律言科知识产权代理事务所
- Agent 罗延红; 杨艳云
- Main IPC: B08B1/04
- IPC: B08B1/04 ; H02S40/10

Abstract:
本发明提供一种清洁装置,该清洁装置包括:行走机构,行走机构包括基座和设置在基座上并能够带动基座移动的行走部;清洁机构,清洁机构设置在基座上,且包括清洁组件和将清洁组件抵紧在被清洁物的表面的浮动调节组件,清洁组件包括滚刷,滚刷的第一端设置在基座上,滚刷的第二端通过浮动调节组件设置在基座上。该清洁装置通过设置浮动调节组件保证清洁效果。
Public/Granted literature
- CN105414069A 清洁装置 Public/Granted day:2016-03-23
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IPC分类: