知搜-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册
发明授权
CN105392765B 含酚羟基的化合物、感光性组合物、抗蚀剂用组合物、抗蚀剂涂膜、固化性组合物、抗蚀剂下层膜用组合物、及抗蚀剂下层膜 有权

  • 专利标题： 含酚羟基的化合物、感光性组合物、抗蚀剂用组合物、抗蚀剂涂膜、固化性组合物、抗蚀剂下层膜用组合物、及抗蚀剂下层膜
  • 申请号： CN201480041092.6
    申请日： 2014-06-12
  • 公开(公告)号： CN105392765B
    公开(公告)日： 2018-03-02
  • 发明人: 今田知之 , 佐藤勇介 , 木本诚二
  • 申请人： DIC株式会社
  • 申请人地址： 日本东京都
  • 专利权人： DIC株式会社
  • 当前专利权人： DIC株式会社
  • 当前专利权人地址： 日本东京都
  • 代理机构： 北京林达刘知识产权代理事务所
  • 代理商 刘新宇; 李茂家
  • 优先权： 2013-150516 2013.07.19 JP
  • 国际申请： PCT/JP2014/065573 2014.06.12
  • 国际公布： WO2015/008560 JA 2015.01.22
  • 进入国家日期： 2016-01-19
  • 主分类号： C07C39/14
  • IPC分类号： C07C39/14 ;  G03F7/023 ;  G03F7/11
含酚羟基的化合物、感光性组合物、抗蚀剂用组合物、抗蚀剂涂膜、固化性组合物、抗蚀剂下层膜用组合物、及抗蚀剂下层膜
摘要：
本发明提供耐热性优异的含酚羟基的化合物；耐热分解性、感光度以及分辨率优异的抗蚀剂用组合物；以及耐热分解性和干蚀刻耐性优异的抗蚀剂下层膜用组合物。一种含酚羟基的化合物，其特征在于，具有下述结构式(1)表示的分子结构。(式中，R1为氢原子、烷基或芳基，n为2～10的整数。R2为烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、卤素原子中的任一种，m为0～4的整数。m为2以上时，多个R2任选各自相同或不同，并任选与萘骨架的2个芳香环之中的任意一个键合)。
摘要（英）：

Provided is a compound containing a phenolic hydroxy group which has excellent heat resistance, a resist composition which has excellent thermal decomposition resistance, optical sensitivity and resolution, and a composition for a resist underlayer coating which has excellent thermal decomposition resistance and dry etching resistance. The compound containing a phenolic hydroxy group has a molecular structure represented by Structural Formula (1) below: wherein R1 is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, n is an integer of 2 to 10, R2 is any one of an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aralkyl group and a halogen atom, m is an integer of 0 to 4, and when m is 2 or greater, a plurality of R2's may be the same as or different from each other and may be bonded to either one of two aromatic rings of the naphthylene skeleton.

公开/授权文献
0/0