校正参数确定方法、装置及设备
摘要:
本申请公开了校正参数确定方法、装置及设备,应用于自动曝光控制AEC校正,所述方法包括:获取目标系统的理论校正参数,所述理论校正参数为所述目标系统的线性拟合函数中因变量为预设的目标因变参数时对应的自变量值,所述线性拟合函数为预设因变参数随预设校正参数呈线性变化的拟合函数;获取所述目标系统根据所述理论校正参数进行AEC校正所得的第一因变参数;若所述第一因变参数与所述目标因变参数之间的误差在预设的误差范围内,则确定所述理论校正参数为匹配所述目标因变参数的目标校正参数。本申请实施例可以有效降低校正次数,快速获得与目标因变参数匹配的目标校正参数,提高校正参数确定效率。
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