- 专利标题: 用于基本同时地监测样品阵列中的样品的紧凑光学系统
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申请号: CN201480028475.X申请日: 2014-03-06
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公开(公告)号: CN105359028B公开(公告)日: 2019-06-25
- 发明人: R·D·阿伯特 , P·L·赖利 , Z·K·埃文斯 , L·M·内伊
- 申请人: 拜奥法尔防护有限责任公司
- 申请人地址: 美国犹他州
- 专利权人: 拜奥法尔防护有限责任公司
- 当前专利权人: 拜奥法尔防护有限责任公司
- 当前专利权人地址: 美国犹他州
- 代理机构: 隆天知识产权代理有限公司
- 代理商 聂慧荃; 郑泰强
- 优先权: 13/834,056 2013.03.15 US
- 国际申请: PCT/US2014/021317 2014.03.06
- 国际公布: WO2014/149875 EN 2014.09.25
- 进入国家日期: 2015-11-16
- 主分类号: G02B27/00
- IPC分类号: G02B27/00 ; B01L7/00 ; G02B13/22 ; G02B17/06
摘要:
被构造用于能够从一公共参考点基本同时观察阵列中的多个点的光学系统和设备。若没有本申请所公开的光学系统和设备,就只有少于所有多个点的点能够从公共参考点基本同时地被观察到。
公开/授权文献
- CN105359028A 用于基本同时地监测样品阵列中的样品的紧凑光学系统 公开/授权日:2016-02-24