发明授权
- 专利标题: 基板处理系统和基板处理方法
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申请号: CN201480033610.X申请日: 2014-05-30
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公开(公告)号: CN105308725B公开(公告)日: 2016-09-14
- 发明人: 木村义雄
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 张会华
- 优先权: 2013-124406 2013.06.13 JP; 2014-109233 2014.05.27 JP
- 国际申请: PCT/JP2014/064406 2014.05.30
- 国际公布: WO2014/199845 JA 2014.12.18
- 进入国家日期: 2015-12-11
- 主分类号: H01L21/304
- IPC分类号: H01L21/304 ; H01L21/677
摘要:
基板处理系统(1)包括处理站(3)和输入输出站(2)。所述处理站(3)具有:磨削装置(30、31),其用于对基板的背面进行磨削;损伤层去除装置(32),其用于将由于所述磨削装置(30、31)进行磨削而形成于基板的背面的损伤层去除;清洗装置(33),其用于在利用所述损伤层去除装置(32)将所述损伤层去除之后对支承基板的背面进行清洗;以及基板输送区域(50),其用于相对于各装置输送基板。各装置分别能够在铅垂方向或水平方向上配置有多个。各装置分别具有用于在内部容纳基板的壳体(30a、31a、32a、33a、200a、201a、202a),各装置用于分别独立地在所述壳体内对基板进行规定的处理。
公开/授权文献
- CN105308725A 基板处理系统、基板处理方法以及计算机存储介质 公开/授权日:2016-02-03
IPC分类: