- 专利标题: 管理装置、衬底处理系统、装置信息更新方法及存储介质
- 专利标题(英): Management device, substrate processing system, device information updating method, and recording medium
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申请号: CN201480026651.6申请日: 2014-05-20
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公开(公告)号: CN105247657A公开(公告)日: 2016-01-13
- 发明人: 越卷寿朗 , 浅井一秀 , 清水英人 , 屋敷佳代子 , 山本一良 , 牧野修久
- 申请人: 株式会社日立国际电气
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 株式会社日立国际电气
- 当前专利权人: 株式会社国际电气
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市金杜律师事务所
- 代理商 陈伟
- 优先权: 2013-108226 2013.05.22 JP
- 国际申请: PCT/JP2014/063336 2014.05.20
- 国际公布: WO2014/189045 JA 2014.11.27
- 进入国家日期: 2015-11-10
- 主分类号: H01L21/02
- IPC分类号: H01L21/02 ; G05B19/418
摘要:
将与具有用于处理衬底的装置信息的衬底处理装置连接的管理装置构成为具有:设定部,设定所述装置信息中的成为所述装置信息的基准的基准装置信息;操作显示部,基于由所述设定部设定的所述基准装置信息,分别对提取从所述衬底处理装置获取的获取装置信息和所述基准装置信息之间的差异而得到的差异部和包含所述基准装置信息在内的所述装置信息的内容进行显示;和控制部,进行如下控制:当从所述操作显示部接收所述获取装置信息和所述基准装置信息之间的差异部的修正指示时,基于所述修正指示,修正所述获取装置信息并创建修正装置信息,并将该修正装置信息向所述衬底处理装置发送。
公开/授权文献
- CN105247657B 管理装置、衬底处理系统、装置信息更新方法及存储介质 公开/授权日:2019-04-26
IPC分类: