一种埋入式电容的制备方法
摘要:
本发明涉及一种埋入式电容的制备方法,包括在铜箔片一侧涂布导电性树脂并烘干完全固化,在导电性树脂表面涂覆介电性树脂并预烘干至半固化状态,将两片铜箔片的介电性树脂表面相对贴合并压合、高温固化以获取双面覆铜叠层板,将双面覆铜叠层板通过贴干膜、曝光、显影、除铜层、除导电层以及剥膜处理以得到埋入式电容等步骤;铜箔片选用较为平整的压延铜箔或者低轮廓电解铜箔,其厚度为1/2oz或者1oz;使用辊压或者真空层压对介电性树脂表面进行压合;通过蚀刻以除去铜层,通过喷砂或激光深控切割以除去导电层;介电性树脂可二次涂覆。通过本发明所获得的埋入式电容的结构,保证在降低介电层厚度以增强电容密度的同时,有效保持介电层的力学性能。
公开/授权文献
0/0