发明授权
- 专利标题: 半导体装置的制造方法
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申请号: CN201480012112.7申请日: 2014-05-08
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公开(公告)号: CN105190844B公开(公告)日: 2017-08-22
- 发明人: 中岛经宏
- 申请人: 富士电机株式会社
- 申请人地址: 日本神奈川县川崎市
- 专利权人: 富士电机株式会社
- 当前专利权人: 富士电机株式会社
- 当前专利权人地址: 日本神奈川县川崎市
- 代理机构: 北京铭硕知识产权代理有限公司
- 代理商 金玉兰; 王颖
- 优先权: 2013-110433 20130524 JP
- 国际申请: PCT/JP2014/062357 2014.05.08
- 国际公布: WO2014/188879 JA 2014.11.27
- 进入国家日期: 2015-09-02
- 主分类号: H01L21/304
- IPC分类号: H01L21/304 ; H01L21/02
摘要:
将玻璃基板(3)经由粘合层(2)粘合到晶片(1)的、形成了正面单元结构的正面(1c)上。粘合层(2)在晶片(1)侧从晶片(1)的正面(1c)遍及到晶片(1)的倒角部(1b)和侧面形成,在玻璃基板(3)侧形成于玻璃基板(3)的第1面(3c)、不形成在玻璃基板(3)的倒角部(3b)和侧面(3a)。将晶片(1)的背面研磨后,在其背面形成背面单元结构。从玻璃基板(3)侧照射激光(13),从粘合层(2)剥离玻璃基板(3)。去除粘合层(2),通过切割切断晶片(1),由此完成形成有薄型半导体器件的芯片。通过这样,容易将粘合于晶片的支撑基板剥离并且能够防止晶片的碎片、破损。
公开/授权文献
- CN105190844A 半导体装置的制造方法 公开/授权日:2015-12-23
IPC分类: