Invention Grant
CN105122420B 紧凑x射线产生装置
失效 - 权利终止
- Patent Title: 紧凑x射线产生装置
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Application No.: CN201480020460.9Application Date: 2014-03-14
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Publication No.: CN105122420BPublication Date: 2017-08-11
- Inventor: C·G·卡马拉 , B·A·卢卡斯 , Z·J·加姆利力
- Applicant: 摩擦透视公司
- Applicant Address: 美国加利福尼亚州
- Assignee: 摩擦透视公司
- Current Assignee: 摩擦透视公司
- Current Assignee Address: 美国加利福尼亚州
- Agency: 北京律盟知识产权代理有限责任公司
- Agent 路勇
- Priority: 13/839,494 20130315 US
- International Application: PCT/US2014/027795 2014.03.14
- International Announcement: WO2014/143718 EN 2014.09.18
- Date entered country: 2015-10-09
- Main IPC: H01J35/16
- IPC: H01J35/16 ; H01J35/22
Abstract:
一种x射线发射装置包括：经配置以维持低流体环境的外壳，所述外壳具有第一壁和第二壁，所述第一壁具有基本上能透x射线的窗，所述第二壁具有包括外部表面的部分，所述外部表面包括电绝缘材料；所述外壳内的电子靶；以及用于摩擦地接触所述电绝缘材料的接触材料，所述接触材料包括一种材料使得与所述电绝缘材料摩擦接触产生电荷不平衡。
Public/Granted literature
- CN105122420A 紧凑x射线产生装置 Public/Granted day:2015-12-02
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