感光性气体产生剂和光固化性组合物

发明授权

摘要：

提供即使曝光量低脱模力的降低效果也优异的光固化性组合物，和包含于所述光固化性组合物中的感光性气体产生剂。感光性气体产生剂为具有通过光刺激产生气体的光刺激响应性气体产生基团、全氟烷基和连接光刺激响应性气体产生基团和全氟烷基的聚亚烷基氧基的化合物。光固化性组合物包含感光性气体产生剂。

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00	专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02	.半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/027	..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜