Invention Grant
CN104955656B 预处理涂层、可印刷介质和向印刷介质提供耐久涂层的方法
失效 - 权利终止
- Patent Title: 预处理涂层、可印刷介质和向印刷介质提供耐久涂层的方法
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Application No.: CN201380072093.2Application Date: 2013-01-31
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Publication No.: CN104955656BPublication Date: 2017-04-05
- Inventor: B-J.纽 , J.斯维 , H.陈 , S.K.班加鲁
- Applicant: 惠普发展公司 , 有限责任合伙企业
- Applicant Address: 美国德克萨斯州
- Assignee: 惠普发展公司,有限责任合伙企业
- Current Assignee: 惠普发展公司,有限责任合伙企业
- Current Assignee Address: 美国德克萨斯州
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 赵苏林; 吕彩霞
- International Application: PCT/US2013/024017 2013.01.31
- International Announcement: WO2014/120175 EN 2014.08.07
- Date entered country: 2015-07-31
- Main IPC: B41M5/50
- IPC: B41M5/50 ; B41M5/00

Abstract:
本公开提供预处理涂层、介质基材和相关方法。由此,预处理涂层可以包含可蒸发溶剂、基质和蜡。所述基质可以包含粘合剂和固定剂,并且所述蜡可以包含分散在所述基质内的蜡颗粒。所述蜡颗粒的至少一部分可以具有大于当以0.5 gsm‑20 gsm的定量将所述预处理涂层施加至介质基材并且将所述可蒸发溶剂除去时所述基质的厚度的粒度。
Public/Granted literature
- CN104955656A 预处理涂层 Public/Granted day:2015-09-30
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