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发明公开
CN104919074A 用于沉积涂层系统的过程及系统以及以其涂覆的构件 无效 - 撤回

  • 专利标题： 用于沉积涂层系统的过程及系统以及以其涂覆的构件
  • 专利标题（英）： Processes and systems for depositing coating systems, and components coated therewith
  • 申请号： CN201380070792.3
    申请日： 2013-07-18
  • 公开(公告)号： CN104919074A
    公开(公告)日： 2015-09-16
  • 发明人: M.A.罗杰斯 , J.E.内尔斯 , R.米纳
  • 申请人： 通用电气公司
  • 申请人地址： 美国纽约州
  • 专利权人： 通用电气公司
  • 当前专利权人： 通用电气公司
  • 当前专利权人地址： 美国纽约州
  • 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
  • 代理商 严志军; 周心志
  • 优先权： 13/744856 2013.01.18 US
  • 国际申请： PCT/US2013/050978 2013.07.18
  • 国际公布： WO2014/113064 EN 2014.07.24
  • 进入国家日期： 2015-07-17
  • 主分类号： C23C4/00
  • IPC分类号： C23C4/00 ;  B05B1/26 ;  C23C4/12
用于沉积涂层系统的过程及系统以及以其涂覆的构件
摘要：
用于在构件上形成涂层系统的过程和系统。在构件上形成涂层系统的过程包括将设备置于促进飞行中的涂层颗粒朝构件上的表面重新定向的位置。表面由限制从涂层颗粒源到表面的视线的构件的部分阻挡。涂层颗粒接着沉积到构件的表面上。涂层颗粒首先沿初始颗粒行进的方向行进，并且以关于表面的最后颗粒行进方向由设备朝构件上的表面重新定向。从涂层颗粒源的视线关于构件的表面成小于30度的角，并且最终颗粒行进的方向关于构件的表面成30度或更大的角。
摘要（英）：

The invention provides processes and systems for forming a coating system on a component. The process of forming the coating system on the component includes placing an apparatus in a location that promotes coating particles in flight to be redirected towards a surface on the component. The surface is obstructed by portions of the component limiting line-of-sight from a source of the coating particles to the surface. The coating particles are then deposited onto the surface of the component. The coating particles initially travel in a direction of initial particle travel and are redirected by the apparatus towards the surface on the component at a direction of final particle travel relative to the surface. The line-of-site from the source of the coating particles is at an angle of less than 30 degrees relative to the surface of the component and the direction of final particle travel is at an angle of 30 degrees or more relative to the surface of the component.

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