发明授权
- 专利标题： 基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置
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申请号： CN201480003545.6申请日： 2014-09-29
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公开(公告)号： CN104871118B公开(公告)日： 2017-07-18
- 发明人: 文程昱 , 金正祐 , 全成浩 , 崔大胜
- 申请人： LG化学株式会社
- 申请人地址： 韩国首尔
- 专利权人： LG化学株式会社
- 当前专利权人： LG化学株式会社
- 当前专利权人地址： 韩国首尔
- 代理机构： 北京金信知识产权代理有限公司
- 代理商 朱梅; 李海明
- 优先权： 10-2013-0116560 20130930 KR 10-2014-0129369 20140926 KR
- 国际申请： PCT/KR2014/009116 2014.09.29
- 国际公布： WO2015/046993 KO 2015.04.02
- 进入国家日期： 2015-06-16
- 主分类号： G06F3/041
- IPC分类号： G06F3/041
摘要：
本发明涉及一种基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置。更具体地，本发明涉及一种基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置，所述基膜包含：具有基于环烯烃重复单元的聚合物，所述环烯烃重复单元具有特定含量以上的外型异构体；以及基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物。所述基膜是透明的，由于具有高的玻璃化转变温度使得耐热性优异，并具有高透光率。
公开/授权文献
- CN104871118A 基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置 公开/授权日：2015-08-26
