发明公开
- 专利标题： 用于阻碍露珠形成的纳米二氧化硅涂层
- 专利标题（英）： Nanosilica coating for retarding dew formation
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申请号： CN201380029961.9申请日： 2013-05-30
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公开(公告)号： CN104769023A公开(公告)日： 2015-07-08
- 发明人: 景乃勇 , 克里斯蒂安·施特雷拉特 , 迈克尔·约斯特
- 申请人： 3M创新有限公司
- 申请人地址： 美国明尼苏达州
- 专利权人： 3M创新有限公司
- 当前专利权人： 3M创新有限公司
- 当前专利权人地址： 美国明尼苏达州
- 代理机构： 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 丁业平; 金小芳
- 优先权： 12171540.3 2012.06.11 EP
- 国际申请： PCT/US2013/043327 2013.05.30
- 国际公布： WO2013/188121 EN 2013.12.19
- 进入国家日期： 2014-12-05
- 主分类号： C08J7/04
- IPC分类号： C08J7/04 ; C08K3/36 ; C09D7/12
摘要：
本公开涉及二氧化硅纳米颗粒涂层以及位于其上具有二氧化硅纳米颗粒涂层的制品，例如具体地回射装置。本公开还涉及用于阻碍在制品表面上形成露珠的方法，所述制品具体地为包括回射支撑体的制品。
公开/授权文献
- CN104769023B 用于阻碍露珠形成的纳米二氧化硅涂层 公开/授权日：2018-05-11
