Invention Publication
- Patent Title: 光学装置、投影光学系统、曝光装置和制造物品的方法
- Patent Title (English): OPTICAL APPARATUS, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE
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Application No.: CN201410806274.XApplication Date: 2014-12-22
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Publication No.: CN104749764APublication Date: 2015-07-01
- Inventor: 崔长植
- Applicant: 佳能株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 佳能株式会社
- Current Assignee: 佳能株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- Agent 曾琳
- Priority: 2013-268090 2013.12.25 JP
- Main IPC: G02B26/00
- IPC: G02B26/00 ; G03F7/20

Abstract:
本公开内容涉及光学装置、投影光学系统、曝光装置和制造物品的方法。本发明提供一种使反射镜的反射表面变形的光学装置,该光学装置包括:基板;固定构件,其被配置为将反射镜的包括反射镜的中心的部分固定到基板;以及多个致动器,每个致动器具有连接到反射镜的第一端和连接到基板的第二端,并且被配置为向反射镜的背面施加力,其中,所述多个致动器包括多个第一致动器和多个第二致动器,并且所述多个第一致动器被布置为使得每个第一致动器与反射镜的中心之间的距离比反射镜的中心与反射镜的外周之间的距离的一半长。
Public/Granted literature
- CN104749764B 光学装置、投影光学系统、曝光装置和制造物品的方法 Public/Granted day:2017-08-29
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